2025年3月19日
一、芯片制造(zao)對(dui)水(shui)(shui)質(zhi)的嚴苛需(xu)求 芯片作(zuo)為現代(dai)工業的“皇(huang)冠明珠(zhu)”,其(qi)生產流程復雜且(qie)耗時長久(jiu)。從(cong)晶圓進(jin)廠到完成封裝(zhuang)測(ce)(ce)試(shi)(封測(ce)(ce)),通常(chang)需(xu)要(yao)至少(shao)3個月的時間,而綜合考慮其(qi)他(ta)因(yin)素,供貨(huo)周期(qi)往(wang)往(wang)達到6個月以(yi)上。芯片制造(zao)的每一個環節都必(bi)須嚴格把控,其(qi)中水(shui)(shui)...
2023年11月20日
正向滲透(tou)(FO)技術(shu) 1、正向滲透(tou)(FO)的(de)原(yuan)理 用(yong)(yong)只(zhi)能(neng)透(tou)過溶(rong)劑而(er)不能(neng)透(tou)過溶(rong)質(zhi)分子的(de)半透(tou)膜將(jiang)溶(rong)劑和溶(rong)液(ye)隔開,溶(rong)劑分子將(jiang)在(zai)滲透(tou)壓的(de)作用(yong)(yong)下自發地(di)從(cong)溶(rong)劑側(ce)透(tou)過膜進入(ru)溶(rong)液(ye)側(ce),這就是(shi)滲透(tou)現象,也即(ji)所謂的(de)“正向滲透(tou)”。 2、正向滲透(tou)膜在(zai)水處理中(zhong)的(de)應用(yong)(yong) ...
2023年3月29日
安美(mei)(mei)特(揚(yang)州(zhou))化(hua)(hua)(hua)學有限公(gong)司(si)年產7萬(wan)噸電(dian)子化(hua)(hua)(hua)學品助(zhu)劑(ji)(ji)項(xiang)目(mu)(mu)一期工程(cheng)純水及配(pei)套設(she)備工程(cheng) 時(shi)間:2018年項(xiang)目(mu)(mu)名稱:安美(mei)(mei)特(揚(yang)州(zhou))化(hua)(hua)(hua)學有限公(gong)司(si)年產7萬(wan)噸電(dian)子化(hua)(hua)(hua)學品助(zhu)劑(ji)(ji)項(xiang)目(mu)(mu)一期工程(cheng)純水及配(pei)套設(she)備工程(cheng)項(xiang)目(mu)(mu)地點(dian):江蘇(su)省揚(yang)州(zhou)市揚(yang)州(zhou)化(hua)(hua)(hua)學工業園區項(xiang)目(mu)(mu)規模(mo):15噸/小(xiao)...
2023年3月29日
河南心(xin)(xin)(xin)連(lian)心(xin)(xin)(xin)化肥除(chu)鹽水(shui)項(xiang)目(mu) 時間:2019年項(xiang)目(mu)名稱:河南心(xin)(xin)(xin)連(lian)心(xin)(xin)(xin)產業升級(ji)項(xiang)目(mu)脫鹽水(shui)站項(xiang)目(mu)地點:河南省新(xin)鄉市項(xiang)目(mu)規(gui)模:27000噸/天(tian)主要工藝(yi):超濾+一級(ji)反滲透(tou)+二級(ji)反滲透(tou)+EDI 蘇(su)州(zhou)蘇(su)爾(er)科環保(bao)工程有限(xian)公司(si)為您提供各(ge)類廢水(shui)處(chu)理(li)和中水(shui)回用等解(jie)決方案,為...
2023年3月8日
EDI電(dian)(dian)去離(li)子設備一(yi)(yi)般以(yi)反滲透(RO)純水(shui)作(zuo)為EDI給水(shui)。RO純水(shui)電(dian)(dian)導率(lv)一(yi)(yi)般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水(shui)電(dian)(dian)阻率(lv)可以(yi)高達15MΩ.cm(25℃),但是根據去離(li)子水(shui)用途和(he)系統工藝、配置不同,EDI純水(shui)適用于制備電(dian)(dian)阻率(lv)要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水(shui)。 EDI電(dian)(dian)去離(li)...